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Bien éclater derrière arches de héros autochtones War Memorial, Shanghai, Chine

Bien éclater derrière arches de héros autochtones War Memorial, Shanghai, Chine Banque D'Images
Aperçu

Détails de l'image

Contributeur:

Asia Images Group LLC / Alamy Banque D'Images

ID de l’image:

CEK1M6

Taille du fichier:

60,2 MB (1,5 MB Téléchargement compressé)

Autorisations:

Modèle - non | Propriété - nonUne autorisation est-elle nécessaire?

Dimensions:

3744 x 5616 px | 31,7 x 47,5 cm | 12,5 x 18,7 inches | 300dpi

Date de la prise de vue:

7 novembre 2010

Photographe:

Asia Images

Informations supplémentaires: